光催化氧化除臭設備簡介及說明書
光催化氧化除臭設備簡介及說明書
光催化氧化是在外界可見光的作用下發(fā)生催化作用,光催化氧化反應是以半導體及空氣為催化劑,以光為能量,將有機物降解為CO2和H2O。本公司選用的半導體是現(xiàn)在反應效率高的納米TiO2光催化劑,經(jīng)蜂窩陶瓷載附***別處理后運用,到達抱負作用。在光催化氧化反應中,經(jīng)過紫外光照耀在納米TiO2光催化劑上發(fā)生電子空穴對,與外表吸附的水份(H2O)和氧氣(O2)反應生成氧化性很活波的羥基自由基(OH-)和超氧離子自由基(O2-、0-)。可以把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類有機物、無機物在光催化氧化的作用下復原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它無毒無害物質,一起具有除臭的成效,因為在光催化氧化反應進程中無任何添加劑,所以不會發(fā)生二次污染。
該設備核心中的納米光催化觸媒材料(GC-100)是一種吸收光能后,能在 其外表發(fā)生催化反應的物質,當***定納米波長的紫外光照耀光催化觸媒材料(GC-100)時,其外表發(fā)生光催化氧化復原反應。光催化觸媒材料(GC-100)吸收光子后在其外表發(fā)生電子(E—)和空穴(H+),將吸收的光能轉化成化學能,即具有光催化作用。 當光催化觸媒材料(GC-100)與空氣中的水觸摸時,外表吸附H2O、O2、OH—,H2O、 OH—被空穴(H+)所氧化,O2被電子(E—)復原,反應式如下: H2O+ H+ OH. + H+ O2+ E— O2—OH—基團的氧化才能較強,使有機物氧化,終分化為水和CO2。下面為典型污染物的被該配備氧化機理。 脂肪族氧化機理:該配備中激起的***定波長紫外光激起光催化觸媒材料(GC-100)所生成的OH. 具有強氧化作用,將脂肪族氧化為醇,進一步氧化為醛、酸,后邊脫羧生成二氧化碳,整個進程可描繪如下:
R – CH2 CH3R – CH2 CH2 OH RCH2 CHORCH2 COOHR – CH3 +CO2RCH2 OHRCHOR–COOH每降解一個碳原子,生成一個CO2,重復循環(huán),直到脂肪族徹底轉化為CO2停止。 芳香族氧化機理: 該配備中激起的***定波長紫外光激起催化觸媒材料(GC-100)所生成的OH. 和H+使苯環(huán)羥基化,生成羥基環(huán)已二烯自由基,然后開環(huán)生成已二烯二醛,再按脂肪族氧化途徑降解,生成CO2和水。
無機氣體氧化機理:H2S+O2 2S+SH2O 4NH3+3O2 2N2+6H2O 綜上所述,使用光催化觸媒材料(GC-100)的光化作用,可以使觸摸光催化劑的水份、臭氣、污物等有機成份都被分化,然后具有除臭、防污、防霧的功能。